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La implantación del grafeno cada vez más cerca gracias a las últimas investigaciones de Samsung

Entre tantas guerras de megapíxeles, núcleos y gigahercios existe una pequeña batalla elemental que no deberíamos de olvidar, ya que guiará el crecimiento de la tecnología del futuro. Hablamos como no de la utilización del grafeno como elemento básico en la fabricación de transistores, un material que ha demostrado con creces su superioridad frente al silicio en lo que a transmisión de electrones se refiere (200 veces superior), pero que por desgracia viene acompañado de un pequeño problema: no es posible cortar la corriente. Esto evidentemente supone un serio problema a la hora de crear dispositivos semiconductores, ya que no es posible interpretar las señales digitales "1" y "0", sin embargo, gracias al trabajo del Instituto de Tecnología Avanzada de Samsung esto podría cambiar, ya que han desarrollado una barrera de grafeno-silicio llamada "Schottky" con la que sí ha sido posible cortar la corriente eléctrica. Con la idea de demostrar las posibilidades se crearon puertas lógicas con este material y se obtuvieron resultados favorables, por lo que puede que estemos más cerca que nunca de ese nano-ordenador implantado bajo la piel que tanto estás deseando tener.

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